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- 产品参数 含量≥:99.999% 产品等级:工业级 执行质量标准:不限 CAS:CF4 产品特点 四氟化碳 (CF4) 项目名称 纯度指标(%) 四氟化碳 ≥99.999 杂质含量(ppm) 氧气(O2) ≤5 水(H2O) ≤2 氮气(N2) ≤2 *(CO2) ≤1 *(CO) ≤1 碳氢化合物() ≤1 包装:采用47L、44L钢瓶充装,也可根据客户需要,分装到8L的气瓶中。
用途:四氟化碳是目前微电子工业中用量*的等离子蚀刻气体 ,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制*火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
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